Ichor Holdingsの業績推移
(単位:百万ドル) | 前年比 | |
---|---|---|
2023年12月 | 12.75% | -22.96% |
2022年12月 | 16.55% | +2.29% |
2021年12月 | 16.18% | +18.45% |
2020年12月 | 13.66% | -1.8% |
2019年12月 | 13.91% | -15.85% |
2018年12月 | 16.53% | +7.62% |
2017年12月 | 15.36% |
膿漿ホールディングス株式会社は、半導体資本設備のための流体送達サブシステムの設計、エンジニアリング、製造に従事しています。当社の主要な製品はまとめて、流体送達サブシステムとして知られているガスと化学配信サブシステムを、含まれています。その気体供給システムは、それぞれマスフローコントローラ、調整器、圧力変換器およびバルブのシリーズ、及び集積電子制御システムによって制御される、ガスラインから成ります。そのガス供給サブシステムは、例えば、エッチング、物理蒸着、エピタキシ、およびストリップなどの乾式製造プロセスのための装置に使用されています。その化学供給サブシステムは、正確にこのような湿式洗浄、電気化学堆積(ECD)及び化学機械研磨(CMP)のような特定のウェットフロントエンドプロセスに重要な反応性化学およびコロイドスラリーを、ブレンドおよび分配するために使用されます。これは、流体送達システム内部で使用するとその顧客への直接販売のためのさまざまなコンポーネントを製造しています。
膿漿ホールディングス株式会社は、半導体資本設備のための流体送達サブシステムの設計、エンジニアリング、製造に従事しています。当社の主要な製品はまとめて、流体送達サブシステムとして知られているガスと化学配信サブシステムを、含まれています。その気体供給システムは、それぞれマスフローコントローラ、調整器、圧力変換器およびバルブのシリーズ、及び集積電子制御システムによって制御される、ガスラインから成ります。そのガス供給サブシステムは、例えば、エッチング、物理蒸着、エピタキシ、およびストリップなどの乾式製造プロセスのための装置に使用されています。その化学供給サブシステムは、正確にこのような湿式洗浄、電気化学堆積(ECD)及び化学機械研磨(CMP)のような特定のウェットフロントエンドプロセスに重要な反応性化学およびコロイドスラリーを、ブレンドおよび分配するために使用されます。これは、流体送達システム内部で使用するとその顧客への直接販売のためのさまざまなコンポーネントを製造しています。
(単位:百万ドル) | 前年比 | |
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2023年12月 | 12.75% | -22.96% |
2022年12月 | 16.55% | +2.29% |
2021年12月 | 16.18% | +18.45% |
2020年12月 | 13.66% | -1.8% |
2019年12月 | 13.91% | -15.85% |
2018年12月 | 16.53% | +7.62% |
2017年12月 | 15.36% |